Fotosureringsteknologi spiller en viktig rolle i moderne industri . Den høye effektiviteten og miljøvern gjør den mye brukt i belegg, blekk, elektronisk emballasje og andre felt . Som en nøkkelkomponent i fotografiet, har fotografering i løpet av det viktige å være i fotokonteksten til dette å bli en nøkkelkomponent {{{ Unik tiofenderivatstruktur og ultrahøy følsomhet for ultrafiolett lys . Denne artikkelen vil dypt analysere dens tekniske egenskaper, spesielt dens kjernefordel som en kationisk frie radikal synergistisk fotosensitizer .
1. kjerneegenskaper ved PAS 20 fotosensibilisator
PAS 20 er en lysegul krystallinsk forbindelse med en molekylvekt på 165 og en tetthet på 1 . 05G/cm³ . Det maksimale absorpsjonsbølgelengden er 410, og dette kan effektivt å fange opp bare lys energi og svarer raskt . EKSPPENCITTAL DATA DATA SHOPTURE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE THE FOCE. Utfører fremdeles utmerket ytelse ved lave konsentrasjoner.
I tillegg ligger det unike ved PAS 20 i sin dobbeltsystemkompatibilitet . Det kan ikke bare forbedre aktiviteten til kationiske fotoinitiatorer, men også samtidig forbedre reaksjonshastigheten til frie radikale system formler .
2. Tekniske fordeler: Synergistisk forbedring og stabil kompatibilitet
1. Synergistisk mekanisme med dobbeltsystem
Tradisjonelle fotosensibilisatorer er vanligvis designet for et enkelt fotoseringssystem (for eksempel rene kationer eller rene frie radikaler), mens PAS 20 oppnår samtidig forbedring av begge systemene gjennom elektronoverføringsegenskapene til thiofenstrukturen . I det kationiske systemet kan det akselerere den ringåpne; I det frie radikale systemet fremmer det den frie radikale kjedereaksjonen gjennom energioverføring . Denne doble effekten av kationfri radikal synergistisk fotosensibilisator forkorter herdingstiden og øker tverrbindingstettheten .
2. Høy følsomhet og stabilitet av ultrafiolett lys
Absorpsjonsbølgelengden til 410nm gjør det mulig Krav .
3. prosesstilpasningsevne
PAS 20 anbefales å bli lagt til i form av en 10% løsning . Denne designen sikrer ikke bare ensartet spredning, men unngår også problemet med utilstrekkelig oppløsning som kan være forårsaket av direkte bruk av krystaller . brukere kan justere formelen i henhold til faktiske behov, og det er kompensibelt med et utvalg av en variant.}} -brukere kan justere formelen i henhold til faktiske behov, og det er kompatibelt (
3. applikasjonsscenarier og bransjeverdi
Som en kationisk frie radikal synergistisk fotosensibilisator har PAS 20 et bredt spekter av applikasjoner:
- Elektroniske emballasjematerialer: I UV-Curing Adhesives kan dens raske herdingskarakteristikker forbedre produksjonseffektiviteten mens du unngår skade på sensitive komponenter forårsaket av høye temperaturer .
- Høyytelsesbelegg: Egnet for tremaling, metallbelegg og andre felt, under hensyntagen til overflatens hardhet og værmotstand .
- 3 D -utskrift av lysfølsom harpiks: Ved å optimalisere herdedybden og nøyaktigheten støtter den rask prototyping av komplekse strukturer .
I tillegg, i feltet med utskriftsblekk, hjelper de lave tilsetningsegenskapene til PAS 20 til å redusere kostnadene, mens dens anti-gulvende egenskaper sikrer at trykte produkter opprettholder fargevisivitet i lang tid .
4. Bruksanbefalinger og forholdsregler
{°
{°
3. formelkompatibilitetstest: Selv om PAS 20 fungerer bra på en rekke harpikssystemer, er det fortsatt nødvendig
5. konklusjon
PAS 20 Fotosensibilisator oppnådde vellykket effektiv synergi av kation og frie radikale systemer gjennom innovativ tiofenderivatstruktur . Den høye følsomheten for ultrafiolett lys, lavt tilleggskrav og utmerket stabilitet gir nye ideer for å oppgradere fotokals {}}}}}}}}}}}}}}}. Etterspørsel etter effektive og miljøvennlige materialer, men legger også et teknisk grunnlag for utvikling av fremtidige multifunksjonelle fotoseringsformler . drevet av de doble kreftene i industrien 4 . 0 og grønn produksjon, PAS 20 forventes å bli en viktig innovatør innen fotosensitive materialer.